吸附设备中/小试服务

从机理验证到先导放大|选择性吸附 · 离子交换 · 智能控制

我们做什么(What we do)

围绕选择性吸附/离子交换的核心需求,提供从 PoC 机理验证 → 小试参数寻优 → 中试连续化 → 先导放大 的一站式服务。适配 锂/镁分离、贵有价金属回收、软化/除硼/脱氟、COD/色度去除 等典型场景,并与膜分离/电化学单元灵活耦合。

典型应用(Use Cases)

盐湖/地热卤水提锂:锂选择性吸附剂(高镁锂比) → 解吸/再生 → 富锂液

金属回收:Ni/Co/Mn/Sc/稀土的选择性捕集与解吸

水处理与深度净化:去硼/去氟/软化、COD/色度/有机磷控制

化工过程净化:副产液/循环母液中目标组分富集与杂质削减

能力与装备(Capabilities)

规模档位:

小试:日处理 60 L(列车式/串并切换,间歇/半连续)

中试:日处理 1 m³ / 6 m³ / 30 m³(24/7 连续,N+1 余度)

吸附/IX 模块:单柱装填 1–400 L(不锈钢/耐腐材质),多柱串/并/轮换,自动反洗、顺序解吸、CIP/再生

耦合单元(可选):UF/NF/RO 预处理与适度浓缩、ED/CDI 电化学精调

在线监测:pH、电导、温度、流量、压差;可增配 Li⁺/Na⁺/Mg²⁺ ISE、UV-Vis、TOC、浊度

控制与数据:PLC/HMI 或小型 DCS,批次追溯、报警/联锁、云端看板与远程诊断

材料兼容:树脂/无机吸附剂/分子筛/功能化纤维;支持快速更换与再生方案评估

验证与指标(KPI)

分离/回收:目标组分回收率、穿透曲线(BT 曲线)、树脂工作容量(g/L)

杂质控制:Mg/Li 比、硼/钙镁/硅/有机物削减率

运行经济性:能耗(kWh/m³)、药耗(酸/碱/盐,kg/m³)、吸附剂单位产出成本(CNY/t-product)

稳定性与抗污:循环次数、ΔP/通量衰减、CIP 周期与恢复率

质量一致性:在线/离线数据偏差 ≤ ±5%(典型)

服务范围(Scope)

来料评估与路线比选:水质/母液谱 → 吸附/IX-膜/电化学组合路线上机比选

参数寻优:空速(BV/h)、接触时间(EBCT)、pH/温度、解吸剂/再生剂配方、阀位逻辑

连续化与放大:多柱列车切换、顺序解吸、再生闭环、母液回流与零排(可选)

集成与自动化:PLC/DCS、配方/批次管理、异常联锁(干转/超压/高低液位)

数据与合规:DoE、原始数据留存、报告与第三方检测、SOP/HSE、HAZOP 要点

交付物(Deliverables)

工程文件:PFD、P&ID、BOM、控制叙述、报警矩阵、接口与布置图

试验数据:穿透/解吸曲线、循环稳定性、能耗/药耗、CIP 效果与树脂寿命评估

放大输入:物料/能量衡算(MEB)、阀组与串并策略、在线仪表清单与量程、备件与维护周期

运维资料:SOP、CIP/再生操作卡、点检表、风险与应急预案

选择性:可提供与膜/电化学耦合的一体化先导方案与成本测算

实施流程(Process)

需求澄清 → 树脂/吸附剂筛选 → 小试参数窗(2–4 周) → 中试连续化(6–10 周) → 先导放大/工程输入(3–6 个月)

可并联“快速验证通道”:在 1–2 周给出单柱穿透初判与药耗下限。

我们的优势(Why Us)

工程+工艺一体化:在盐湖提锂/高盐体系锂分离、去硼/反硅等复杂场景中沉淀的阀位逻辑与抗污策略

模块化可迁移:60 L → 1/6/30 m³/d 同族参数与控制,放大无缝过渡

数据驱动:在线/离线一致性与批记录追溯,便于与 LIMS/MES 对接

低 TCO 方案:吸附/膜/电化学组合优化,兼顾回收率、能耗与药耗

合规齐套:SOP/HSE、第三方检测与达标报告,可支撑投融资与对外审查

典型技术配置(示例)

多柱列车:3–6 柱轮换,BV/h 1–10,自动反洗与再生

解吸/再生:酸/盐/络合剂方案比选,回收与废液分流管理

在线仪表:pH/电导/ΔP/流量/温度 +(可选)Li⁺/Na⁺/Mg²⁺ ISE、UV-Vis/TOC

控制:阀组互锁、干转/超压保护、批次配方、远程运维

材质:SS316L/PVDF/PTFE/PEEK(强腐/高盐适配)

合同与套餐(Packages)

验证包(2–4 周):穿透/解吸曲线、配方与操作窗;形成路线优选报告

中试放大包(6–12 周):24/7 连续、循环稳定性、KPI 与成本窗口、MEB 与控制策略

工程输入包(3–6 个月):技术包(PFD/P&ID/控制叙述)、BOM、仪表/阀组清单、培训与开车

FAQ

Q:只提供树脂/吸附剂也可以吗?
A:可以,但建议同时进行装置与控制策略验证,才能得到可迁移的工程数据。
Q:高镁锂比/高硼/高硫酸根能适配吗?
A:有成熟支路(去硼/反硅/除钙镁、膜-吸附联用、电化学精调)与抑垢策略。
Q:数据与配方如何保密?
A:签署 NDA/技术封装协议;样品与数据分级管理;可私有化部署数据看板。